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              質(zhì)量方針

              QUALITY POLICY

              以科技創(chuàng )新更好的服務(wù)大眾的日常需求

              To better serve the daily needs of the public

              with scientific and technological innovation
               

              國內實(shí)驗室培育鉆石的佼佼者,技術(shù)和生產(chǎn)規模均領(lǐng)先于同行業(yè)者。

              零污染、零排放

              Zero pollution, zero emissions

              超節能

              Super energy saving

              高科技

              high technology

              氣象沉積法工藝流程 

              MPCVD Process

               

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              生產(chǎn)原理技術(shù)

              Production principle technology

              企業(yè)優(yōu)勢

              高溫高壓法(HTHP)
               

              優(yōu)點(diǎn):設備成本低 
              缺點(diǎn):雜質(zhì),晶體尺寸小   
              產(chǎn)品尺寸:塊狀,一般最大邊小于1cm          
              使用領(lǐng)域:局限于鉆頭,刀具,珠寶

               

              企業(yè)優(yōu)勢

              熱絲法化學(xué)氣相沉積(HFCVD)
               

              優(yōu)點(diǎn):沉積速度快,設備成本較低
              缺點(diǎn):雜質(zhì),設備可放大性差
              產(chǎn)品尺寸:片狀,厚度可控,直徑可達10厘米
              使用領(lǐng)域:鉆頭,刀具,珠寶,散熱片,光學(xué)窗口,金剛石薄膜

               

              企業(yè)優(yōu)勢

              直流電弧等離子體噴射法(DCAPJ)


              優(yōu)點(diǎn):沉積速度快,常壓下可運行
              缺點(diǎn):雜質(zhì),設備可放大性差
              產(chǎn)品尺寸:片狀,厚度可控,直徑可達10厘米
              使用領(lǐng)域:鉆頭,刀具,珠寶,散熱片,光學(xué)窗口,金剛石薄膜


              企業(yè)優(yōu)勢

              微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)

              優(yōu)點(diǎn):穩定,可擴贊,品質(zhì)高
              缺點(diǎn):設置成本偏高
              產(chǎn)品尺寸:片狀,厚度可控,直徑可達10厘米以上
              使用領(lǐng)域:鉆頭,刀具,珠寶,散熱片,III-V基底,金剛石薄膜,電化學(xué)電極少


              底部logo

              和諧綠色的制造商,采用十二字方針追求卓越品質(zhì),體現非凡價(jià)值。

               

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